Zeta-20臺式光學(xué)輪廓儀

產(chǎn)品描述

Zeta-20臺式光學(xué)輪廓儀是非接觸式3D表面形貌測量系統(tǒng)。 該系統(tǒng)采用ZDot技術(shù)和Multi-Mode (多模式)光學(xué)系統(tǒng)，可以對各種不同的樣品進(jìn)行測量：透明和不透明、由低至高的反射率、由光滑至粗糙的紋理，以及納米至毫米級別的臺階高度。

Zeta-20的配置靈活并易于使用，并集合了六種不同的光學(xué)量測技術(shù)。ZDot測量模式可同時采集高分辨率3D數(shù)據(jù)和True Color（真彩）無限遠(yuǎn)焦點(diǎn)圖像。其他3D測量技術(shù)包括白光干涉測量、Nomarski干涉對比顯微鏡和剪切干涉測量。 ZDot或集成寬帶反射儀都可以對薄膜厚度進(jìn)行測量。 Zeta-20也是一種顯微鏡，可用于樣品復(fù)檢或自動缺陷檢測。 Zeta-20通過提供的臺階高度、粗糙度和薄膜厚度的測量以及缺陷檢測功能，適用于研發(fā)及生產(chǎn)環(huán)境。

主要功能

采用ZDot和Multi-Mode（多模式）光學(xué)器件的簡單易用的光學(xué)輪廓儀，具有廣泛的應(yīng)用

可用于樣品復(fù)檢或缺陷檢測的高質(zhì)量顯微鏡

ZDot：同時采集高分辨率3D數(shù)據(jù)和True Color（真彩）無限遠(yuǎn)焦點(diǎn)圖像

ZXI：白光干涉測量技術(shù)，適用于z向分辨率高的廣域測量

ZIC：干涉對比度，適用于亞納米級別粗糙度的表面并提供其3D定量數(shù)據(jù)

ZSI：剪切干涉測量技術(shù)提供z向高分辨率圖像

ZFT：使用集成寬帶反射計(jì)測量膜厚度和反射率

AOI：自動光學(xué)檢測，并對樣品上的缺陷進(jìn)行量化

生產(chǎn)能力：通過測序和圖案識別實(shí)現(xiàn)全自動測量

主要應(yīng)用

臺階高度：納米到毫米級別的3D臺階高度

紋理：平滑到非常粗糙表面的粗糙度和波紋度

外形：3D翹曲和形狀

應(yīng)力：2D薄膜應(yīng)力

薄膜厚度：30nm到100μm透明薄膜厚度

缺陷檢測：捕獲大于1μm的缺陷

缺陷復(fù)檢：采用KLARF文件作為導(dǎo)航以測量缺陷的3D表面形貌或切割道缺陷位置

工業(yè)應(yīng)用

太陽能：光伏太陽能電池

半導(dǎo)體和化合物半導(dǎo)體

半導(dǎo)體 WLCSP（晶圓級芯片級封裝）

半導(dǎo)體FOWLP（扇出晶圓級封裝）

PCB和柔性PCB

MEMS（微機(jī)電系統(tǒng)）

醫(yī)療設(shè)備和微流體設(shè)備

數(shù)據(jù)存儲

大學(xué)，研究實(shí)驗(yàn)室和研究所

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